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2024/09/06 10:26 144.24 円 160.68 円 192.83 円 フォトリソグラフィ装置の世界市場:タイプ別(DUV(ArFi、KrF、ArF、I-line)、EUV)、波長別(170nm-270nm、1nm-170nm、270nm-370nm)、デバイス波長別(エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ、水銀ランプ)、エンドユース別(IDM、ファウンドリー)、アプリケーション別(バックエンド、フロントエンド)、地域別、競争予測・機会、2026年Global Photolithography Equipment Market, By Type (DUV (ArFi, KrF, ArF and I-line), EUV), By Wavelength (170nm-270nm, 1nm-170nm, 270nm-370nm), By Device Wavelength (Excimer Lasers, Laser Produced Plasma, Mercury Lamps), By End-Use (IDMs, Foundries), By Application (Back End, Front End), By Region, Competition Forecast & Opportunities, 2026出版社:TechSci Research ![]()
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